文献类型：期刊文献

中文题名：硅烷膜在化学镀镍磷合金镀层上的封闭性能研究

英文题名：Research on Pore Sealing of Electroless Ni-P Plating Alloy Covered with Silane Film

作者：陈文明[1];曾为民[1];马玉录[1]

机构：[1]华东理工大学承压系统安全科学教育部重点实验室机械与动力工程学院,上海200237

年份：2008

卷号：37

期号：3

起止页码：4

中文期刊名：表面技术

外文期刊名：Surface Technology

收录：CSTPCD;;CSCD:【CSCD_E2011_2012】；

语种：中文

中文关键词：硅烷膜;镍磷合金镀层;耐蚀性;化学镀;镀镍磷合金;封闭处理

外文关键词：Silane films; Electroless Ni-P Plating Alloy; Anticorrosion; Chemical plating; Electroless Ni-P plating alloy ; Sealing

摘要：化学镀镍磷合金镀层在形成过程中不可避免地存在着微孔,由于以碳钢为基体的化学镀镍磷合金镀层在大多数腐蚀介质中都属阴极性镀层,微孔的存在将会导致基体的孔蚀。采用表面硅烷化方法对镍磷合金镀层进行了封闭处理,结果表明:镍磷合金镀层表面硅烷化后可以大幅提高镍磷合金镀层的抗腐蚀性能。
It is inevitable to form pore in the process of electroless Ni-P plating alloy, Ni-P plating alloy on the surface of steel belongs to cathode anticorrosion plating in mostly corrosion mediums, pore conduces steel hole corrosion. The silane film was used to seal porosity in electroless Ni-P plating alloy. The results show that the anticorrosion of electroless plating is improved dramatically after the plating covered with silane films.