文献类型：期刊文献

中文题名：化学气相淀积制备Si_3N_4超细粉末

英文题名：Production of Si_3N_4 Ultrafine Powders by Chemical Vapor Deposition

作者：朱宏杰[1];李春忠[1];陈红[1];胡黎明[1]

机构：[1]华东理工大学技术化学物理研究所

年份：1995

卷号：10

期号：1

起止页码：43

中文期刊名：无机材料学报

外文期刊名：Journal of Inorganic Materials

收录：CSTPCD;;EI(收录号：1996072757577);Scopus;北大核心:【北大核心1992】；CSCD:【CSCD2011_2012】；

基金：国家自然科学基金

语种：中文

中文关键词：化学气相淀积;热力学;超细粉末;氮化硅陶瓷

外文关键词：Si_3N_4, chemical vapor deposition, ultrafine powder, thermodynamics

摘要：本文研究了ＳｉＣｌ４－ＮＨ３－Ｎ２－Ｈ２系统平衡热力学，确定了Ｓｉ３Ｎ４合成的最佳热力学条件．采用电阻炉化学气相淀积法制备了Ｓｉ３Ｎ４超细粉末，并考察了工艺条件对颗粒形貌的影响．
The system of SiCl4-NH3-N2-H2, which was used to synthesize Si3N4 ultrafine powders, was analyzed thermodynamically, and the conditions to prepare Si3N4 powders were evaluated. Si3N4 ultrafine powders were synthesised by chemical vapor deposition method in an electronic furnace reactor. The influence of processing parameters on properties of products was studied.