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一种新的含苯乙烯基偶氮苯化合物及其制备方法和应用    

文献类型:专利

中文题名:一种新的含苯乙烯基偶氮苯化合物及其制备方法和应用

作者:林绍梁[1];贺小华[1];林嘉平[1];陈涛[1];庄启昕[1];

机构:[1]华东理工大学;

专利类型:发明专利

申请号:CN200810204115.7

申请日:20081205

申请人地址:200237 上海市徐汇区梅陇路130号

公开日:20100623

代理人:刁文魁;翟羽

代理机构:上海翼胜专利商标事务所(普通合伙)

语种:中文

中文关键词:化合物;苯乙烯基;偶氮苯;高聚物;非线性光学材料;制备方法和应用;制备技术领域;苯乙烯基团;化合物合成;化学结构式;目标化合物;储存器件;合成制备;偶联反应;氢谱图;烷氧基;重氮化;光致;酯化;变色;聚合;响应

摘要:本发明一种新的含苯乙烯基偶氮苯化合物及其制备方法和应用涉及化合物合成及其制备技术领域,一种新的含苯乙烯基偶氮苯化合物,其基本结构式为:在结构式中含有偶氮苯基团和苯乙烯基团,化学结构式中R1和R2为烷基或烷氧基;该化合物可通过重氮化反应、偶联反应、酯化反应和魏悌息等一系列反应进行合成制备;由于偶氮苯基团是良好的光致变色基团,苯乙烯基能通过自由聚合得到高聚物,从而使该类化合物在非线性光学材料、光响应及储存器件等方面有着广泛的应用前景;附图为新的含苯乙烯基偶氮苯化合物(R1=-OCH3、R2=-OC4H9)的氢谱图,其证明了目标化合物的成功合成。

参考文献:

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