文献类型：期刊文献

中文题名：三甲基硅取代酞菁的光降解反应研究

英文题名：STUDY ON THE PHOTODEGRADATION OF TRIMETHYLSILYL SUBSTITUTED PHTHALOCYANINE

作者：郭霖[1];孟凡顺[1];陈孔常[1];田禾[1]

机构：[1]华东理工大学精细化工研究所,上海200237

年份：2001

卷号：19

期号：2

起止页码：127

中文期刊名：感光科学与光化学

外文期刊名：Photographic Science and Photochemistry

收录：Scopus;北大核心:【北大核心2000】；CSCD:【CSCD2011_2012】；

基金：国家自然科学基金重点资助项目! (2 983 61 50 )

语种：中文

中文关键词：三甲基硅聚代酞菁;光降解;反应机理;GC-MS;动力学

外文关键词：trimethylsilyl substituted Pcs; photodegradation; mechanism

摘要：三甲基硅取代锌酞菁在有机溶剂中的光降解为准一级动力学衰减 ,本文对其光降解后产生的碎片用气相色谱 质谱联用技术进行了分析 ,提出了三甲基硅取代锌酞菁的光降解机理 .三甲基硅取代酞菁在有机溶剂中的溶解度是影响其光降解的主要因素 ,溶解度越大 。
The photodegradation of trimethylsilyl substituted ZnPc in different organic solvents is of quai first order kinetic decay and the resulting species were analyzed by GC/MS spectrometer. The mechanism of the photodegradation was proposed. Solubility is the key factor affects the photofading of TMS substituted Pcs. The greater the solubility the faster the fading.