文献类型：期刊文献

中文题名：高反射率193nm反射膜的实现

英文题名：The Achieving of High-reflectance 193nm HR Coatings

作者：尚淑珍[1];赵祖欣[1];邵建达[2];范正修[2]

机构：[1]华东理工大学机械与动力工程学院承压系统安全科学教育部重点实验室,上海200237;[2]中国科学院上海光学精密机械研究所,上海201800

年份：2008

卷号：28

期号：1

起止页码：19

中文期刊名：应用激光

外文期刊名：Applied Laser

收录：CSTPCD;;北大核心:【北大核心2004】；CSCD:【CSCD2011_2012】；

基金：上海市重点学科建设资助(项目编号:B503)

语种：中文

中文关键词：193nm;反射膜;反射率;光学稳定性

外文关键词：193nm; HR Coatings; reflectance; optical Stability

摘要：对应用于193nm反射膜的基底材料、薄膜材料、沉积技术与主要沉积工艺参数进行了分析与优化选择,在此基础上进行了193nm反射膜的设计、制备及后处理,实现了时间稳定性与环境稳定性良好的193nm反射膜,反射率达98%以上。
The materials of substrate and film, depositing method and main technological parameters for 193nm HR mirrors were analyzed and optimized on the basis of which the 193nm HR mirrors were designed, prepared and annealed. The coatings with reflectance of more than 98% and very high time and environment stability were achieved.