文献类型：会议论文

中文题名：铈基稀土抛光材料的应用现状及发展前景

作者：高玮[1];赵月昌[2]

机构：[1]华东理工大学化学工程学院超细粉末国家工程研究中心;[2]上海华明高纳稀土新材料有限公司

会议论文集：中国稀土学会2023学术年会、第十五届中国包头·稀土产业论坛摘要集

会议日期：20230815

会议地点：中国内蒙古包头

语种：中文

中文关键词：氧化铈;抛光材料;抛光液

摘要：铈基稀土抛光材料主要应用在硅基半导体、光学元件、手机盖板、液晶面板减薄、玻璃和石材磨具等领域。本文综述了铈基稀土抛光材料在各领域的应用现状和发展前景。在半导体抛光领域,氧化铈抛光液的进步显著但距离批量应用还有待突破,国外对半导体加工材料的管制促进了国内半导体用氧化铈抛光液的自主生产和供应。光学元件领域,铈基稀土抛光材料(抛光粉和抛光液)已基本满足各种应用要求,用量显著提升。在手机盖板领域,随着手机盖板基板玻璃材质的提升和加工工艺的改进,盖板用稀土抛光粉的用量减少、价格降低。液晶面板减薄领域的情况与盖板玻璃基本一致,化学减薄工艺的改进大大降低了后续抛光的需求。玻璃和石材磨具对铈基稀土抛光材料的需求稳定增加,且对铈基稀土抛光材料的性能提出了更高的要求。面向未来,铈基稀土抛光材料的专业化、复合化,针对各细分应用领域进行专业开发(材料复配和工艺定制)是铈基稀土抛光材料的发展方向。