文献类型：期刊文献

中文题名：苯并三氮唑与4-羧基苯并三氮唑在氯化钠溶液中对铜的缓蚀作用

英文题名：Corrosion inhibition of BTA and its derivative 4CBTA on copper electrode in 3% NaCl solution

作者：徐群杰[1];周国定[1];陆柱[2];刘峰名[3];田中群[3];林昌健[3]

机构：[1]上海电力学院电化学研究室;[2]华东理工大学防腐蚀中心,上海200237;[3]厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室,厦门361005

年份：2001

卷号：11

期号：1

起止页码：135

中文期刊名：中国有色金属学报

外文期刊名：The Chinese Journal of Nonferrous Metals

收录：CSTPCD;;Scopus;北大核心:【北大核心2000】；CSCD:【CSCD2011_2012】；

基金：国家自然科学基金!资助项目 (2 9876 0 0 8) ;上海市自然科学基金;厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室资助!项目 (970 5 )

语种：中文

中文关键词：铜电极;苯并三氮唑;缓蚀剂;表面增强拉曼光谱;氯化钠溶液

外文关键词：Cu electrode; BTA; inhibitor; SERS

摘要：用表面增强拉曼光谱技术 (SERS)对在 3 %NaCl溶液中苯并三氮唑 (BTA)及其衍生物 4 羧基苯并三氮唑 (4CBTA)对铜的缓蚀作用机理进行了研究。发现 4CBTA对铜的缓蚀作用机理与BTA相似 ,在较正电位下两者都是通过三唑环与铜形成配合物覆盖在铜表面 ;随着电位负移 ,铜电极表面吸附的分子形式的BTA或 4CBTA数量增多 ;4CBTA中的—COOH基团只是起到空间位阻的作用 ,没有参与电极表面的吸附。两者复配使用时以BTA吸附为主 ,其缓蚀机理没有发生改变 ,也没有产生协同效应。
The corrosion inhibition of BTA and its derivative 4CBTA on Cu electrode in 3% NaCl solution was studied by SERS technique. The inhibition mechanism for these inhibitors was found to be nearly the same, which form a protective film through the triazole ring. As the potential turns negative, the molecules of BTA or 4CBTA gradually adsorbs on the copper surface. The substitute group(—COOH) of 4CBTA acts as a steric hindrance. A combination of BTA and 4CBTA doesn't show any synergistic effect and the adsorption substance on the copper surface is mainly BTA.[