文献类型：期刊文献

中文题名：化学镀NiP原子沉积过程二维计算机模拟

英文题名：2D Computer Simulation of Atomic Deposition Process for Electroless NiP Coating

作者：关凯书[1];刘鹏虎[2];王志文[3];尹衍升[1]

机构：[1]山东大学材料液态结构及遗传教育部重点实验室,工程陶瓷省重点实验室,山东济南250061;[2]辽宁工程技术大学材料工程系,辽宁抚顺123000;[3]华东理工大学化工机械研究所,上海200237

年份：2002

卷号：26

期号：10

起止页码：15

中文期刊名：机械工程材料

外文期刊名：Materials For Mechanical Engineering

收录：CSTPCD;;北大核心:【北大核心2000】；CSCD:【CSCD2011_2012】；

语种：中文

中文关键词：计算机模拟;化学镀镍磷合金;Monte-Carlo方法

外文关键词：computer simulation; electroless NiP alloy; Monte Carlo method

摘要：建立了非晶态化学镀NiP原子沉积过程计算机模拟模型 ,用MonteCarlo方法对原子沉积过程进行了二维 (2D)计算机模拟。结果表明 ,吸附原子的迁移概率及最大迁移距离S对镀层的显微孔隙有显著的影响。随着吸附原子迁移概率的增加 (k减小 )及最大迁移距离S的增大 ,吸附原子有更大的概率迁移到配位数较多的位置处沉积 ,即原子填充空穴及孔隙的机会多 ,镀层孔隙率低。
Two dimensional computer simulation model in atomic scale using Monte Carlo method was established. The researches have remarkable scientific value and engineering significance for controlling coating's structure and microporosity. Two dimensional computer simulation structure of the coating was given and the influence factors of microporosity were revealed. The simulation results showed that migration probability of adatoms ( k ) and migration distance ( S ) influenced the microporosity, the microporosity decreased with the decrease of k and with the increase of S .